នៅក្នុងដំណើរការផលិតនៃរោងចក្រផលិត wafer សារធាតុ semiconductor ជាមួយនឹងដំណើរការផលិតកម្រិតខ្ពស់ ត្រូវការឧស្ម័នជិត 50 ប្រភេទផ្សេងៗគ្នា។ ឧស្ម័នជាទូទៅត្រូវបានបែងចែកទៅជាឧស្ម័នច្រើន និងឧស្ម័នពិសេស.

ការប្រើប្រាស់ឧស្ម័ននៅក្នុងឧស្សាហកម្មមីក្រូអេឡិចត្រូនិច និង semiconductor ការប្រើប្រាស់ឧស្ម័នតែងតែដើរតួយ៉ាងសំខាន់ក្នុងដំណើរការ semiconductor ជាពិសេសដំណើរការ semiconductor ត្រូវបានប្រើប្រាស់យ៉ាងទូលំទូលាយនៅក្នុងឧស្សាហកម្មផ្សេងៗ។ ពី ULSI, TFT-LCD ដល់ឧស្សាហកម្មមីក្រូអេឡិចត្រូនិច (MEMS) បច្ចុប្បន្ន ដំណើរការ semiconductor ត្រូវបានប្រើជាដំណើរការផលិតផលិតផល រួមទាំងការឆ្លាក់ស្ងួត ការកត់សុី ការផ្សាំអ៊ីយ៉ុង ការដាក់ខ្សែភាពយន្តស្តើង។ល។

ជាឧទាហរណ៍ មនុស្សជាច្រើនដឹងថាបន្ទះសៀគ្វីធ្វើពីខ្សាច់ ប៉ុន្តែក្រឡេកមើលដំណើរការទាំងមូលនៃការផលិតបន្ទះឈីប ត្រូវការសម្ភារៈជាច្រើនទៀតដូចជា photoresist, polishing liquid, target material, special gas ជាដើមគឺមិនអាចខ្វះបាន។ ការវេចខ្ចប់ផ្នែកខាងក្រោយក៏ទាមទារស្រទាប់ខាងក្រោម អន្តរប៉ូស័រ ស៊ុមនាំមុខ សមា្ភារៈផ្សារភ្ជាប់។ល។ នៃសម្ភារៈផ្សេងៗ។ ឧស្ម័នពិសេសអេឡិចត្រូនិចគឺជាវត្ថុធាតុដើមធំជាងគេទីពីរនៅក្នុងការចំណាយលើការផលិត semiconductor បន្ទាប់ពី wafers ស៊ីលីកុន បន្ទាប់មកដោយរបាំងមុខ និង photoresists ។

ភាពបរិសុទ្ធនៃឧស្ម័នមានឥទ្ធិពលលើការសម្រេចចិត្តលើដំណើរការសមាសធាតុ និងទិន្នផលផលិតផល ហើយសុវត្ថិភាពនៃការផ្គត់ផ្គង់ឧស្ម័នគឺទាក់ទងទៅនឹងសុខភាពរបស់បុគ្គលិក និងសុវត្ថិភាពនៃប្រតិបត្តិការរោងចក្រ។ ហេតុអ្វីបានជាភាពបរិសុទ្ធនៃឧស្ម័នមានឥទ្ធិពលយ៉ាងខ្លាំងទៅលើដំណើរការ និងបុគ្គលិក? នេះមិនមែនជាការបំផ្លើសទេ ប៉ុន្តែត្រូវបានកំណត់ដោយលក្ខណៈគ្រោះថ្នាក់នៃឧស្ម័នខ្លួនឯង។

ចំណាត់ថ្នាក់នៃឧស្ម័នទូទៅនៅក្នុងឧស្សាហកម្ម semiconductor

ឧស្ម័នធម្មតា។

ឧស្ម័នធម្មតាត្រូវបានគេហៅផងដែរថាឧស្ម័នភាគច្រើន: វាសំដៅទៅលើឧស្ម័នឧស្សាហកម្មដែលមានតម្រូវការភាពបរិសុទ្ធទាបជាង 5N និងបរិមាណផលិតកម្មនិងការលក់ដ៏ធំ។ វាអាចត្រូវបានបែងចែកទៅជាឧស្ម័នបំបែកខ្យល់ និងឧស្ម័នសំយោគតាមវិធីរៀបចំផ្សេងៗគ្នា។ អ៊ីដ្រូសែន (H2), អាសូត (N2), អុកស៊ីសែន (O2), argon (A2) ជាដើម។

ឧស្ម័នពិសេស

ឧស្ម័នពិសេសសំដៅលើឧស្ម័នឧស្សាហកម្មដែលត្រូវបានប្រើក្នុងវិស័យជាក់លាក់ និងមានតម្រូវការពិសេសសម្រាប់ភាពបរិសុទ្ធ ភាពសម្បូរបែប និងលក្ខណៈសម្បត្តិ។ ជាចម្បងSiH4, PH3, B2H6, A8H3,HCL, CF4,NH3, POCL3, SIH2CL2, SIHCL3,NH3, BCL3, SIF4, CLF3, CO, C2F6, N2O, F2, HF, HBR,SF6… ហើយដូច្នេះនៅលើ។

ប្រភេទនៃឧស្ម័នហឹរ

ប្រភេទនៃឧស្ម័នពិសេស៖ ច្រេះ, ពុល, ងាយឆេះ, ជំនួយការចំហេះ, និចលភាព។ល។
ឧស្ម័ន semiconductor ដែលប្រើជាទូទៅត្រូវបានចាត់ថ្នាក់ដូចខាងក្រោមៈ
(i) សារធាតុពុល / សារធាតុពុល៖HClBF3, WF6, HBr, SiH2Cl2, NH3, PH3, Cl2,BCl3…
(ii) ងាយឆេះ៖ H2,CH4,SiH4PH3, AsH3, SiH2Cl2, B2H6, CH2F2, CH3F, CO...
(iii) ងាយឆេះ៖ O2, Cl2, N2O, NF3…
(iv) និចលភាព៖ N2,CF4C2F6,C4F8,SF6ឧស្ម័ន CO2Ne,Krលោក…

នៅក្នុងដំណើរការនៃការផលិតបន្ទះសៀគ្វី semiconductor ប្រហែល 50 ប្រភេទផ្សេងគ្នានៃឧស្ម័នពិសេស (ហៅថាឧស្ម័នពិសេស) ត្រូវបានប្រើក្នុងការកត់សុី ការសាយភាយ ការដាក់ប្រាក់ ការ etching ការចាក់បញ្ចូល photolithography និងដំណើរការផ្សេងទៀត ហើយដំណើរការសរុបមានលើសពីរាប់រយ។ ឧទាហរណ៍ PH3 និង AsH3 ត្រូវបានគេប្រើជាប្រភពផូស្វ័រ និងអាសេនិចក្នុងដំណើរការផ្សាំអ៊ីយ៉ុង ឧស្ម័ន F-based CF4, CHF3, SF6 និងឧស្ម័ន halogen CI2, BCI3, HBr ត្រូវបានគេប្រើជាទូទៅក្នុងដំណើរការ etching, SiH4, NH3, N2O នៅក្នុង ដំណើរការថតចម្លង F2/Kr/Ne, Kr/Ne នៅក្នុងដំណើរការ photolithography ។

ពីទិដ្ឋភាពខាងលើយើងអាចយល់បានថាឧស្ម័ន semiconductor ជាច្រើនមានគ្រោះថ្នាក់ដល់រាងកាយមនុស្ស។ ជាពិសេស ឧស្ម័នមួយចំនួនដូចជា SiH4 គឺអាចបញ្ឆេះដោយខ្លួនឯងបាន។ ដរាបណាពួកវាលេចធ្លាយ ពួកវានឹងមានប្រតិកម្មយ៉ាងហឹង្សាជាមួយនឹងអុកស៊ីសែននៅក្នុងខ្យល់ ហើយចាប់ផ្តើមឆេះ។ និង AsH3 មានជាតិពុលខ្លាំង។ ការលេចធ្លាយបន្តិចបន្តួចអាចបណ្តាលឱ្យមានគ្រោះថ្នាក់ដល់ជីវិតរបស់មនុស្សដូច្នេះតម្រូវការសម្រាប់សុវត្ថិភាពនៃការរចនាប្រព័ន្ធគ្រប់គ្រងសម្រាប់ការប្រើប្រាស់ឧស្ម័នពិសេសគឺខ្ពស់ជាពិសេស។

Semiconductors ត្រូវការឧស្ម័នដែលមានភាពបរិសុទ្ធខ្ពស់ដើម្បីឱ្យមាន "បីដឺក្រេ"

ភាពបរិសុទ្ធនៃឧស្ម័ន

ខ្លឹមសារនៃបរិយាកាសមិនបរិសុទ្ធនៅក្នុងឧស្ម័នជាធម្មតាត្រូវបានបង្ហាញជាភាគរយនៃភាពបរិសុទ្ធនៃឧស្ម័នដូចជា 99.9999% ។ និយាយជាទូទៅ តម្រូវការភាពបរិសុទ្ធសម្រាប់ឧស្ម័នពិសេសអេឡិចត្រូនិកឈានដល់ 5N-6N ហើយក៏ត្រូវបានបង្ហាញដោយសមាមាត្របរិមាណនៃមាតិកាបរិយាកាសមិនបរិសុទ្ធ ppm (ផ្នែកក្នុងមួយលាន) ppb (ផ្នែកក្នុងមួយពាន់លាន) និង ppt (ផ្នែកក្នុងមួយពាន់ពាន់លាន)។ វាល semiconductor អេឡិចត្រូនិកមានតម្រូវការខ្ពស់បំផុតសម្រាប់ភាពបរិសុទ្ធ និងស្ថេរភាពគុណភាពនៃឧស្ម័នពិសេស ហើយភាពបរិសុទ្ធនៃឧស្ម័នពិសេសអេឡិចត្រូនិចជាទូទៅធំជាង 6N ។

ភាពស្ងួត

ខ្លឹមសារនៃទឹកដាននៅក្នុងឧស្ម័ន ឬភាពសើម ជាធម្មតាត្រូវបានបង្ហាញនៅក្នុងចំណុចទឹកសន្សើម ដូចជាចំណុចទឹកសន្សើមបរិយាកាស -70 ℃។

ភាពស្អាតស្អំ

ចំនួនភាគល្អិតបំពុលនៅក្នុងឧស្ម័ន ភាគល្អិតដែលមានទំហំ µm ត្រូវបានបង្ហាញជាចំនួនភាគល្អិត/M3។ សម្រាប់ខ្យល់ដែលបានបង្ហាប់ ជាធម្មតាត្រូវបានបង្ហាញជា mg/m3 នៃសំណល់រឹងដែលមិនអាចជៀសវាងបាន ដែលរួមមានមាតិកាប្រេង។